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  • 친수성 UPE 카트리지 멤브레인필터 PHOTO-UNIX는 소수성 UPE 막(Membrane) 및 HDPE(High Density Polyester) 재질인 Support,Core 및 End-Cap으로 구성되어 있으며 O-ring은 EPDM 또는 TEV에서 선택할 수 있습니다.Photo-Unix 시리즈 UPE 필터는 2nm ~ 0.2 μm의 광범위한 입자 제거/보유 등급을 갖고 있으며 SEMI-Photo 프로세스의 중요한 요구 사항을 충족하도록 뛰어난 입자 제거/보유 능력, 높은 청결성 및 높은 화학적 호환성이 보장된 제품입니다.UPE 멤브레인 소재의 특징은 높은 청결성,낮은 입자 발산 및 오염 물질 제거로 생산되어 입자 제거/보유 효율을 향상시켰으며 필터의 넓은 멤브레인 표면적은 높은 유속과 긴 서비스 수명을 제공합니다

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  • COMPACT CMP 캡슐 멤브레인필터 POLICAP+ POU

    Membrane Solutions 반도체용 

    COMPACT CMP 캡슐 멤브레인필터 POLICAP+ POU는 폴리프로필렌(PP,Polypropylene) 막(Membrane) 및 순수 폴리프로필렌(PP,Polypropylene) 재질인 Support,Core 및 End-Cap으로 구성되어 있으며 특히 콜로이드 실리카, 세리아 및 매우 미세한 알루미나 기반 슬러리에 최적화된 고급 CMP 응용 분야를 위해 특별히 설계되었으며 구조적으로 편리한 일회용 설계로 빠른 설치가 가능하고 슬러리에 대한 노출이 최소화되어 있으며 낮은 폐기물량의 특징을 가지고 있습니다.COMPACT CMP 캡슐 멤브레인필터 POLICAP+ POU는 다양한 종류의 멜트블로운 또는 멤브레인을 감은 필터 매체로 되어 있으며 유연한 커넥터 옵션과 함께 사용할 수 있습니다

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  • COMPACT CMP 캡슐 멤브레인필터 POLICAP POU

    Membrane Solutions 반도체용 

    COMPACT CMP 캡슐 멤브레인필터 POLICAP POU는 제한된 공간에서 고급 CMP 애플리케이션을 위해 특별히 설계되었습니다. 필터구성은 모든 부분이 폴리프로필렌으로 제작되었으며 컴팩트한 디자인 및 일회용으로 오염요소를 사전에 제거할 수 있으며 쉽게 교체할 수 있는 합리적인 가격의 제품입니다. 성능 측면에서는 멜트블로운 또는 깊이 주름 필터 매체로 되어 있어서 유효한 연마재를 유지 하면서 필터의 입자 크기 분포(PSD)를 유지할 수 있으며 CMP 슬러리에서 결함을 유발하는 입자 및 겔을 효과적으로 차단할 수 있습니다. 필터 매체의 고유한 구조로 인해서 상대적으로 낮은 차압, 뛰어난 제거 효율 및 긴 서비스 수명을 보장합니다

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  • PP 주름 멤브레인 카트리지필터 CMPro-P

    Membrane Solutions 반도체용 

    PP 주름 멤브레인 카트리지필터 CMPro-P는 주름진 다층 등급 구조의 폴리프로필렌(PP,Polypropylene) 막(Membrane) 및 순수 폴리프로필렌(PP,Polypropylene) 재질인 Support,Core 및 End-Cap으로 구성되어 있으며 O-ring은 EPDM 또는 FKM에서 선택할 수 있습니다.화학적 기계적 연마(CMP) 슬러리,특히 상대적으로 고체 함량이 낮은 산화물,텅스텐 및 구리 슬러리에서 유래한 응집된 입자 및 겔 제거에 이상적입니다. 또한 PP 주름 멤브레인 카트리지필터 CMPro-P는 상대적으로 깊고 넓은 주름을 가지고 있어 여과 영역과 먼지 제거/보유 용량을 크게 향상시켜 매우 낮은 차압(Ultra-low differential Pressure) 및 긴 수명을 유지합니다.

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  • PP 심층 카트리필터(Depth Filter) CMPro-M

    Membrane Solutions 반도체용 

    PP 심층 카트리필터(Depth Filter) CMPro-M는 폴리프로필렌(PP,Polypropylene) 매디아,Support,Core 및 End-Cap으로 구성되어 있으며 O-ring은 EPDM 또는 FKM에서 선택할 수 있습니다.SDS(슬러리 전달 시스템)용 벌크 슬러리 여과를 위해 특별히 설계되었으며 고유의 등급화된 밀도 설계 복합 구조 폴리프로필렌 매체는 CMP 여과 문제를 해결해 줍니다.PP 심층 카트리필터(Depth Filter) CMPro-M는 응집체의 우수한 제거/보유 효율과 높은 오염원 제거 용량 사이에서 균형을 잘 이루고 있습니다.CMP 슬러리와 입자에서 유래한 파괴적인 입자만을 효과적으로 제거할 수 있으며 필터의 유효한 슬러리 입자의 크기 분포(PSD)는 여과후에도 변경되지 않습니다.PP 심층 카트리필터(Depth Filter) CMPro-M는 Oxide CMP, STI CMP 및 Metal CMP를 포함한 다양한 상황에서 다양한 CMP 응용 프로그램을 만족시킬 수 있습니다

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